科技半導體
中國新創展示國產 EUV 光源，商用量產估仍需 3 至 5 年
結論先講：中國新創朗道矽斯展示自研 EUV 微影雷射光源，九成組件來自本土供應或研發。原型機已能用於晶圓曝光測試，但光源只是整部微影機的一環。公司自己估計，距商業化量產仍有 3 至 5 年。
90%
組件來自中國本土
100小時
可連續穩定運行
3至5年
官方估商用所需時間
[ 3 個快取重點 ]
01
系統採雷射激發電漿技術，配備 1,000 瓦驅動雷射。
02
原型可做晶圓曝光測試，不等於已完成量產級 EUV 掃描儀。
03
仍未定案：商用時間是公司預估，整機整合進度仍可能改變。
01突破落在哪裡
朗道矽斯把光源原型推到可測試晶圓的階段，意義在於供應鏈自主化，不是已追平 ASML。
01 大數字
90%
約九成組件來自中國本土供應或自主研發。
02你該怎麼看
真正的門檻還包括反射鏡、晶圓定位和數千個子系統協作，短期更像技術驗證，而非設備市場重新洗牌。
Bottom line
能點亮 EUV，只是開始；能讓整台機器長期穩定生產，才是產業門票。
- 原始報導
- 科技新報
- 改寫方式
- 快取新聞不轉載原文。我們讀完原始報導後，用自己的話重寫成結論、三個重點與一張圖。數字均取自上列來源，未經我們獨立查證。
- 單位
- 「pt」為百分點，指兩個百分比的差，不是成長率。標示「預估」或斜線紋樣者為推估值，非已實現數字。
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